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ICP Ether 전문업체 기가레인(gigalane.com)은 오는 6월 25일부터 28일까지 일산 킨텍스 3, 4홀에서 진행되는 LED EXPO & OLED EXPO 2013에 참가해 LED용 PSS와 Gan Etch에 사용되는 LED Etcher, MAXIS300L 시리즈를 선보일 예정이다.
MAXIS300L은 LED소자의 발광 효율을 향상시키는 PSS(Patterned Sapphire Substrate) 식각 공정과 Photonics Crystal 식각 공정, 전극을 형성하는 GaN 식각 공정 등에 사용되는 장비다. 균일한 식각, 우수한 선택비, 안정적인 하드웨어로 우수한 제품 생산성을 확보할 수 있다.
기가레인은 현재 RIE, ICP, CCP 형의 독자적인 플라즈마 소스를 자체 개발, 보유하고 있으며 이를 이용한 다양한 파운드리 공정 및 양산 능력을 보유하고 있다. 관계자에 따르면 기가레인은 지난 2000년 반도체용 Etcher를 개발한 이래, MEMS 및 TSV 시장을 겨냥한 Deep Silicon Etcher와 LED용 PSS로 ICP Etcher 분야에서 세계 최고 수준의 장비임을 인증 받는 등 핵심적인 등록 특허를 45개 이상 보유하고 있다.
2006년부터는 MEMS FAB을 자체 운영, 다양한 Recipe와 강력한 DB와 더불어 Deep Silicon Etch, 핵심기술인 Electro Plating 공정을 보유하고 있다.
11회째를 맞이하는 LED EXPO & OLED EXPO 2013(www.ledexpo.com)은 LED, OLED 조명, 장비, 부품, 소재, 연구기관에 이르기까지 모든 관련 기업, 기관들이 한 자리에 모여 LED산업의 현 주소를 점검하고 나아가 글로벌 경쟁력을 확보하기 위한 전략을 제시할 전망이다.
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